반도체 & 디스플레이

[ Semiconductor & Display ]

반도체·디스플레이 공정은 초정밀 클린룸 환경에서 이루어지며, 미세한 입자 발생이나 화학물질 누출이 수율에 직접적인 영향을 미칩니다. 폴리스타는 우수한 화학 내성과 저파티클 특성을 갖춘 캡슐오링, PEEK 소재 씰 등으로 정밀 공정을 지원합니다.

주요 적용 부위

웨이퍼 이송·척(Chuck) 장비식각(Etch)·증착(CVD/PVD) 챔버가스 배관 밸브초순수(UPW) 배관

요구 성능

1

초저파티클

클린룸 오염을 최소화하는 저발진(Low-Outgassing) 소재.

2

우수한 화학 내성

강산, 강염기, 플라즈마 환경에서도 변형 없는 내구성.

3

정밀 치수 관리

수 마이크론 단위의 정밀 공차로 미세 누설을 방지.

4

고온·고진공 대응

공정 온도·압력 변화에도 안정적인 밀봉 성능 유지.

반도체·디스플레이 공정 사양이 궁금하신가요?

도면이나 사용 조건을 알려주시면 담당자가 확인 후 신속히 답변드립니다.

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